鼎益科技，鼎益真空(图)-纳米电镀加工厂家-纳米电镀

灯具真空镀膜机

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车灯保护膜镀膜机

车灯保护膜镀膜设备

照明保护膜镀膜机

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反光杯镀膜机

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反光罩真空镀膜机

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车灯硅油保护镀膜设备

高真空蒸发镀膜机

PVD真空镀膜设备

pvd真空电镀设备

蒸发镀膜机 离子镀膜机 磁控溅射镀膜机 镀膜生产线 项目配套 镀膜耗材当前位置：首页镀膜设备蒸发镀膜机灯具真空镀膜机

设备介绍

电磁干扰(EMI)屏蔽金属器的应用。

其他需要电磁干扰屏蔽功能的行业

EMI屏蔽膜特性

.薄膜厚度：1.5 ~ 3微米，取决于要求。

.薄膜电阻。(欧姆)优于0.5Ω

.附着力：3M810胶带>5B

.EMI 屏蔽膜的涂覆工艺

.直流溅射不锈钢

.热蒸发法沉积铜

.直流溅射不锈钢，完全覆盖在Cu膜层上。

功能型镀膜设备溅射蒸发镀膜机是专门为EMI屏蔽薄膜沉积而设计的，广泛用于电信设备、计算机、笔记本电脑、消费电子、家用电器、手机外壳、笔记本电脑外壳、雷达测速仪器、汽车视频部件、航空航天、项目。

设备特点

1) 双门结构和快速的泵送速度，实现高生产率

2）用户友好的触摸屏面板和PLC控制

3)用户友好的软件程序设计，二手纳米电镀设备，生产稳定，纳米电镀材料，质量高。

4) 溅射靶材利用率高，纳米电镀，确保生产成本低。

5)良好的均匀性&的附着力

6)***的设计理念，纳米电镀加工厂家，以更好的性能来提高生产效率和质量率。

7) 离子源装置用于等离子体清洗和表面活性处理，提高附着力。

8) 通过Polycold-水蒸气低温泵，高真空抽气时间缩短25%至75%。在加工过程中降低水蒸气分压，以获得更高的薄膜质量，更好的附着力和更多的可重复的沉积。

蒸发磁控两用镀膜机

PVD真空镀膜设备

磁控溅射镀膜机

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铝膜PVD电镀设备

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低温真空电镀设备

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设备参数：

型号工作室尺寸直径X长(mm)可镀工件大尺寸直径（mm）极限压力(Pa)空载抽气时间

(分钟)装机总功率(KW)蒸发功率(KW)真空机组配置DY-1200Φ1200X1400Φ330X1200X6≤3X10-3≤65320KT-600;ZJ-300;2X-8;2X-70DY-1400Φ1400X2000Φ400X1700X6≤3X10-3≤66520KT-800;ZJ-600;2X-15;H-150DY-1600Φ1600X2000Φ470X1700X6≤3X10-