二手纳米电镀设备-纳米电镀-鼎益科技，鼎益真空(查看)

PVD内镀蒸发镀膜机可以镀玻璃、陶瓷、塑胶等瓶状、罐状、球状的内壁。它是由真空室体、抽气系统、电控系统及蒸发等系统组成。多个被镀工件扣在装夹盘上，关上大门，快速抽气，在真空状态下，电阻加热蒸发金属膜料，蒸气凝结在工件内表面形成所需要的薄膜。灯罩内镀设备-蒸发镀膜机灯罩-杯具真空PVD内镀机：蒸发镀膜机是专为饰品、器件内镀膜研制。

技术参数：

一、 设备采用立式结构，真空室内腔尺寸F600X600、F600X800、F800X800、F800X1000、F1000X1000、F1000X1200（高）

二、工作室配备蒸发机构，3层至5层平放玻璃杯。

三、 每次可镀口径为F30至F200mm的玻璃杯或玻璃球，例如口径为F50mm玻璃杯每次可镀约60~120只。

四、电控系统配备半自动/手动双控功能，纳米电镀，配全自动测量真空仪表，采用全自动蒸发控制。

五、配真空机组：

      K系列扩散泵 二台；

      2X系列滑阀泵一台；

      2X-4系列旋片泵二台。

六、抽真空周期：空载从大气抽至5x10 ˉ2帕小于6分钟。

备注：真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做。

中频离子镀膜机-中频溅射镀膜设备中频溅射离子镀膜机：

设备集直流磁控溅射，中频溅射和电弧离子蒸发三种技术融合一体，一体，根据不同产品需求，可选配加热系统、偏压系统、离化系统等装置。设备配置了多对中频靶位，能在金属制品及非金属表面镀制合金膜、化合物膜、多层复合膜等，且利于快速沉积更厚更纯净的膜层。

设备优势：

设备所镀制的膜层具有附着力强、致密性高的优点，纳米电镀技术，对提高颜色一致性及化合物成份的稳定性提供了解决方案，可有效提高产品的耐盐雾性、耐磨能力及产品表面硬度，满足了膜层制备的需求。在产品上表现为耐腐蚀性增强、膜层硬度增大弹性模量降低、涂层表面摩擦系数更低、涂层颜色光亮度提高。

制备涂层：

离子金、离子银、氮化钛膜、碳化钛膜、氮化锆膜、钛铝合金膜、氮化铬（TiN） 、（TiCN） 、（TiC）、（TiO2） 、（TiAlN）、（CrN）、 （ZrN）、 （CrC）等金属化合物膜层。

设备功能：

效果：复合膜（功能膜）牢固度高，硬度高。离化率高、沉积速率高、磁控溅射低温稳定、颗粒细腻、操作简单、产量高等。

设备应用：

表带、高尔夫球具、五金、餐具、手表配件、手机配件、眼镜架、灯饰、卫浴洁具等制品。

镀制颜色：

钛金系列、锆金系列、拉丝系列、黑色系列、彩色膜层系列，纳米电镀加工，可实现深黑色、炉内金、玫瑰金、仿金、锆金、宝石蓝、亮银色等共十多种颜色。

高真空卷绕式镀膜设备 - 卷绕式蒸发镀膜机

鼎益真空机械设备生产的卷绕式真空镀膜设备具有高真空获得能力，能够进行PET、PI等柔性薄膜材料的高精度往复卷绕传输，通过人机对话的形式来实现系统的工作数据显示、操作与控制，以实现真空系统的全自动预热操作，抽气和冷泵作业、红外线加热等。

设备特点:

本设备对柔性基体材料传动主辊、收卷辊、放卷辊的驱动装置采用司服电机进行调速，配合其张力传感器、来实现薄膜传输过程中收放卷卷绕的恒张力自动控制。本设备的镀膜主辊配备了-套快速的真空镀膜加热装置，该装置用于在进行真空镀膜操作时将镀膜主辊表面加热至镀膜工艺要求的温度，用以加热被镀的基体材料。本设备在真空工作室内装有一套大面积的低温冷冻盘管，利用进口低温深冷系统以抽除真空室水汽。主机含一套离子源系统，对膜层进行改性处理，含水冷和充气系统，均匀性高。可根据工艺要求配置MF孪和DC阴极系统。真空室的结构为一卧式半圆柱形简体，二手纳米电镀设备，真空室整体采用304不锈钢制造。真空室正/反面各配有矩形观察窗1个，用以观察基体材料卷绕以及镀膜效果;侧面配有圆形观察窗可以辅助观察基体材料开卷及镀膜情况。卷绕系统由基体材料卷绕装置和移动动力小车等组成。基体材料卷绕装置由放卷装置、镀膜主辊、收卷装置和部分导辊以及安装这些辊系的大、小墙板等部件组件组成。采用司服电机进行调速，配合其张力传感器、来实现镀膜过程中收放卷卷绕的恒张力自动控制;系统带有基体材料预紧(防松卷)等功能。真空抽气系统采用分子泵、国产油扩散泵做为排气主泵，保证镀膜所需的的真空度。