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PVD铝镜镀膜机 铝镜镀膜机

铝镜镀膜设备

玻璃铝镜镀膜机

玻璃银镜镀膜机

高真空银镜镀膜机

PVD铝镜镀膜设备

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铝镜（银镜）真空蒸发镀膜机

(简称蒸镀)是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质使之汽化，蒸发粒子流直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。真空蒸发镀膜技术投备与工艺相对比较简单，既可沉积非常纯净的膜层，又可制备具有特定结构和性质的膜层等，是当今非常重要的镀膜技术。

设备优势：

鼎益科技PVD真空（银镜）铝镜镀膜机镀制膜光亮、细腻、镀膜速度快、、操作简单、设备稳定.膜层牢固，色泽鲜亮，膜层不易受污染，可获得致密性高、纯度高、膜厚均匀的膜层。

本公司可根据用户要求设计各种规格型号的真空镀膜机。

真空机组及电控系统也可根据用户要求进行设计配置。

偏压电源在多弧离子和磁控溅射镀膜技术中都要使用。只是由于磁控溅射的离化率远低于多弧离子镀，所需偏压电源的功率更小。目前有许多设备既配备磁控溅射靶，也配有多弧靶，选择偏压电源功率时，要以多支工作时的要求来定。早期的偏压电压主要是用可控硅技术的直流偏压电源，现在多为采用高频逆变技术制造的单极性、直流叠加脉冲和双极性脉冲偏压电源。偏压电源主要用于多弧离子和磁控溅射镀膜过程中的辉光清洗、离子轰击和膜层沉积时在被镀工件上施加偏压，在辉光清洗时，它产生辉光；在离子轰击中用于加速离子，提高离子轰击工件表面进的能量，达到溅射清洗效果和提高膜层结合力的目的，在膜层沉积时，纳米电镀，它也用于增加离子能量，促进和改善薄膜生长，也会提高膜基结合力，以下是几种常见波形的偏压电源：

     单极性脉冲偏压电源

     主要特点

     1.高频单极性脉冲偏压施压在工件上，相比直流偏压而言，由于存在电压中断间隙，能有效减少打火次数，保护工件表面。

     2.脉冲间隙期间，工件表面积累的电荷可以被中和，从而减少了表面电荷积累引起的打火。

     3.高频逆变技术中的快速关断能力，能有效减少每次打火释放的能量，即使在打火出现时，也能明显降低工件表面大损伤程度。

     4.脉冲间隙期间沉积到工件表面的离子能量很低。

     5.可以通过调节频率、占空比要改善和控制成膜速度和质量。

真空电镀蒸发是气体利用的什麽原理?

在高真空度的条件下，高纯度的镀层金属（如铝）在高温下蒸发后会自由地飞散开并沉降在工件表面，纳米电镀材料，形成镀层。气为保护性气体，防止氧化反应影响镀层质量。

气在电镀过程中有何用?

气不参与反应，纳米电镀加工，只是增加气压，改善镀膜时靶的放电条件，气不是用于镀膜，主要用于创造镀膜的环境。氮气和气都是惰性气体，冲进去以后，纳米电镀加工厂家，一 可以排除氧气，防止氧化，二更具氮气和气在扩散泵内的含量比例不同，可以镀膜出不同的颜色.主要是为了改变镀膜出来产品的色彩.

真空镀膜行业中，气的流量大小具体如何控制?

如果是说镀膜时为了调节压力使用的气体 个人认为如下：气如果只是调节压力，一次压可以不计，但是二次压要小于0.5个大气压。氮气也是，主要是因为如果大了，会导致真空仓内的压力变化太剧烈，导致误差。如果是使用离子源，那么气入气量不宜过大，大了导致离子量过大，烧坏部件。压力和上边没什么差别。